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　　美光公司在华销售的产品未通过网络安(ān)全审查

　　据网信办消息，日(rì)前，网络安全审查办公室依(yī)法对美(měi)光公司在华销售产品(pǐn)进行了(le)网络安全审查。

　　审(shěn)查发现(xiàn)，美光公(gōng)司产品存在较(jiào)严重(zhòng)网络安全问题隐患，对我(wǒ)国关(guān)键信息基础设施供(gōng)应链造成重(zhòng)大安全风险，影响(xiǎng)我(wǒ)国国家安全。为此，网络安全审查办(bàn)公室依法(fǎ)作出不予(yǔ)通过网络安全(quán)审查的(de)结论。按照《网络安全法》等法律法规，我国内关键信息(xī)基础设施的运营者应停止采(cǎi)购(gòu)美光(guāng)公司产品。

　　此次对美光公司产品进行(xíng)网络安全审查，目的是防范(fàn)产品(pǐn)网络安全问题危(wēi)害国家关键信(xìn)息基础设施(shī)安全，是维护国家(jiā)安(ān)全的必要措施(shī)。中国坚定推进高水平(píng)对外开放，只(zhǐ)要遵守中国法律法(fǎ)规要(yào)求，欢迎各国企业、各类平台产品(pǐn)服务进入中国市场。

　　3月(yuè)31日，中国网信网发(fā)文称，为(wèi)保(bǎo)障(zhàng)关键信息(xī)基础设施(shī)供应(yīng)链安全，防范产品问题隐患造成(chéng)网络安全风险，维护国家安全，依据《中华人民共和(hé)国国家(jiā)安全法》《中(zhōng)华人民(mín)共和(hé)国网(wǎng)络安(ān)全法(fǎ)》，网络安全审查办(bàn)公室按照《网络安(ān)全审查(chá)办法》，对美光公司（Micron）在华销售的产品实(shí)施网(wǎng)络(luò)安(ān)全审(shěn)查。

　　美(měi)光(guāng)是美国的存(cún)储芯(xīn)片行(xíng)业龙(lóng)头，也是全(quán)球存(cún)储(chǔ)芯片巨头之一，2022年收入来自中(zhōng)国市场收入从此前高峰(fēng)57％降至2022年约11％。根据(jù)市场(chǎng)咨(zī)询机构(gòu) Omdia（IHS Markit）统计，2021 年三星电子、 铠侠、西部数据、SK 海力士、美光、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪存）市场(chǎng)份额约为 96.76％，三星电子、 SK 海力士、美光在全(quán)球 DRAM （内存）市场(chǎng)份额约(yuē)为 94.35％。

　　A股上市(shì)公(gōng)司中(zhōng)，江波龙、佰维存储等(děng)公司披露过美光等(本来无一物何处惹尘埃什么意思爱情，本来无一物,何处惹尘埃什么意思类似的诗句děng)国(guó)际存储(chǔ)厂商为公司供(gōng)应商。

　　美(měi)光在(zài)江波(bō)龙(lóng)采购(gòu)占比已经显著下降，至少(shǎo)已(yǐ)经不是主要大供应商。

　　公告显示， 2021年美(měi)光位列(liè)江波龙第一大存储(chǔ)晶圆(yuán)供应商，采购(gòu)约(yuē)31亿(yì)元，占比33.52％；2022年，江(jiāng)波(bō)龙(lóng)第一(yī)大、第二(èr)大和(hé)第三大(dà)供应商(shāng)采购金(jīn)额占比(bǐ)分别是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前江(jiā本来无一物何处惹尘埃什么意思爱情，本来无一物,何处惹尘埃什么意思类似的诗句f0000; line-height: 24px;'>本来无一物何处惹尘埃什么意思爱情，本来无一物,何处惹尘埃什么意思类似的诗句ng)波龙(lóng)已经在存(cún)储(chǔ)产业链上下游(yóu)建立国内外广泛合作(zuò)。2022年年报(bào)显(xiǎn)示，江波龙(lóng)与三星、美光、西(xī)部数据等主要存储(chǔ)晶圆原厂签署了长期合约，确(què)保存储晶圆供应的稳定(dìng)性，巩固公司在下游市场的供应优势(shì)，公司也与国内(nèi)国产存储晶圆原厂武汉(hàn)长江存(cún)储、合肥长鑫保持(chí)良好的(de)合作。

　　有券商此前就分析，如果美光(guāng)在中国区销售受到限制，或将导致(zhì)下(xià)游客(kè)户转而采(cǎi)购(gòu)国外三星、 SK海力士，国内长江存储、长鑫存储(chǔ)等竞对产品

　　分(fēn)析称(chēng)，长(zhǎng)存、长鑫的上(shàng)游设(shè)备厂或从中受(shòu)益(yì)。存储器的生产(chǎn)已经演进到(dào)1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工(gōng)艺。另外NAND Flash现在已(yǐ)经进入3D NAND时代，2 维到3维的(de)结构转(zhuǎn)变使刻蚀和薄(báo)膜成为最关键、最(zuì)大量的(de)加工设备(bèi)。3D NAND每层(céng)均(jūn)需(xū)要经过薄膜沉积工艺(yì)步(bù)骤，同时(shí)刻蚀(shí)目前前沿要刻(kè)到 60：1的深孔，未(wèi)来(lái)可能会(huì)更(gèng)深的孔(kǒng)或者沟槽，催生(shēng)更多(duō)设备需求。据东京电(diàn)子披露，薄膜(mó)沉积设备(bèi)及刻蚀(shí)占3D NAND产线资(zī)本开支合计为(wèi)75％。自(zì)长江存储被(bèi)加入美国限制名单，设备国产化(huà)进程加(jiā)速，看好拓荆科技（薄膜沉积）等相(xiāng)关(guān)公司份(fèn)额提(tí)升，以(yǐ)及存储业务占(zhàn)比较高的华(huá)海清科（CMP）、盛美(měi)上海（清洗）等收入增长。

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